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EDI 电去离子水设备

【摘要】EDI(Electrodeionization,连续电去离子)结合了离子交换和电渗析技术,通过直流电场驱动离子迁移并连续再生树脂,无需化学药品。产水电阻率可达5~17 MΩ·cm,广泛应用于电厂锅炉、军工、医药、电子、机械等行业。

EDI 技术简介

EDI技术的出现改变了制备高纯水只能采用混床的局面。一般混床需要周期性再生,再生过程中使用大量酸碱和纯水并造成环境问题;而EDI技术因其水质稳定、全自动控制、不需化学再生、无污水排放等优点而被广泛使用。EDI进水一般要求电导率在40μS/cm以下,常用一级或双级反渗透出水作为前级预处理。

反渗透+EDI高纯水系统 反渗透(RO)+ EDI 高纯水系统

EDI vs 混床对比

对比项EDI混床
水质稳定性连续稳定,不波动随树脂耗尽逐渐下降
自动化程度全自动,无人值守需人工再生操作
停机再生无需停机,24小时连续需停机再生
化学品消耗零化学品需大量酸碱
运行费用仅消耗电力,综合成本低酸碱+纯水+人工
占地面积较大,需酸碱储罐区
污水排放产生酸碱废液

EDI 工作原理

EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开形成浓水室,在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电推动下,淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入浓水室而从淡水中去除。浓水室水流将离子带出系统成为浓水。

EDI工作原理示意图 EDI工作原理示意图

EDI 典型流程

原水 → 预处理(多介质+活性炭+软化) → 精密过滤 → 一级RO → EDI → 高纯水(15~17 MΩ·cm)

高要求场合可采用:原水 → 预处理 → 双级RO → EDI → 抛光混床 → 0.1μm精滤 → 超纯水(18 MΩ·cm)

单级反渗透+EDI高纯水系统主机 单级反渗透+EDI高纯水系统主机
双级反渗透+EDI高纯水系统主机 双级反渗透+EDI高纯水系统主机

EDI 组件结构

  1. 淡水室:将离子交换树脂填充在阴、阳离子交换膜之间形成淡水单元
  2. 浓水室:用网状物将每个EDI单元隔开,形成浓水室
  3. 极水室
  4. 绝缘板和压紧板
  5. 电源及水路连接 — 可将EDI并联运行以取得更大流量

EDI 给水预处理

给水预处理对于EDI极其重要,组件的寿命、性能及维修量都取决于给水中的杂质含量。一般要求RO预处理除去99%以上离子,再进入EDI深度脱盐。EDI浓水一部分可循环,一部分返回RO给水或排放。

EDI 电源要求

所用直流电源应在运行电压范围内可调,直流电源的纹波率不能超过30%。多个EDI组件共用一个直流电源时,每个EDI电压/电流应实现独立可调,并配备限流装置和安全联锁(水流量过低时自动关闭电源)。

纯水保存

EDI处理后的成品水进入纯水箱保存。为保证水质不受空气中CO₂污染,一般采用氮封办法(纯水箱顶部充入氮气)。液位电磁阀与PLC配合,低水位自动启动制水,高水位自动停止,始终维持纯水箱中有足够水量。

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本页关键词:EDI 电去离子 RO+EDI 高纯水 去离子 连续电去离子

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